本资料包含荷兰光刻机厂商ASML的内部培训资料 ，包括介绍芯片的制作过程以及原理，光刻机的使用说明以及原理等等
2021-05-14 14:43:32
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20210430-头豹研究院-光刻机行业2021年系列：全球光刻机行业概览.pdf
2021-05-14 13:03:19
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【激光刻印机】MD-V9600系列 YVO4刻印机zip,【激光刻印机】MD-V9600系列 YVO4刻印机
2021-03-10 21:09:32
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建立了一个基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型。通过等效膜层法求解含缺陷多层膜无缺陷区域和含缺陷区域不同位置的反射系数，准确快速地仿真含缺陷多层膜的衍射谱。与波导法严格仿真相比，200 nm 尺寸时仿真速度提高9倍左右。与改进单平面近似模型和基于单平面近似的简化模型相比，该模型对衍射谱和空间像的仿真精度有了较大提高，并且仿真精度随缺陷尺寸和入射角的变化很小。以+1 级衍射光为例，6°入射时，与改进单平面近似模型和简化模型相比，该模型对衍射谱振幅的仿真误差分别减小了77%和63%。
2021-03-02 09:07:37
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本文叙述采用输出波长为308nm的XeCl准分子激光器进行微米级接触式光刻实验.获得1.5μm的分辨线条,而2.25μm线条已符合集成电路光刻要求.
2021-02-25 17:05:32
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