化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺，用于在晶片衬底上生长高纯度硅，基于comsol对超高真空化学气相沉积进行模拟，依靠输入流量和压力控制，可得到表面气相分布分数。
2022-11-07 10:14:36
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2022-05-02 11:00:23
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